実験室2. （総合技術研究所3階307室クリーンルーム）
両面マスクアライナ露光装置
紫外線を用いて試料に微細なパターンを転写・焼き付けする装置
RIE装置（ドライエッチング装置）
反応性ドライエッチング（Reactive Ion Etching)装置でシリコン・酸化シリコン・窒化シリコン・有機物などをドライエッチング可能
小型チューブ炉
シリコンウェハの水蒸気酸化を行うためのチューブ炉（上：4inch熱酸化炉，下；2inch熱酸化炉）
ウェットベンチ
有害な気体が発生時や揮発性の有害物質を取り扱う際，安全のために用いる局所排気装置の一種
溶融塩実験装置
高温で溶融した塩を多孔質粒子の表面全体に付着させ多孔質発熱粒子を作製する装置
クリーンベンチ
HEPAフィルタを用いて埃などの混入を防ぎクリーンな環境でサンプル観察などの作業が可能
EQUIPMENT2
- 両面マスクアライナ露光装置
- RIE装置
(ドライエッチング装置) - 小型チューブ炉
(4inch熱酸化炉) - 小型チューブ炉
(2inch熱酸化炉) - 溶融塩実験装置
- クリーンベンチ
- ウェットベンチ
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EQUIPMENT 1