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工学部/電気学科

薄膜作成評価装置一式

薄膜作成評価装置一式

設備名 薄膜作成評価装置一式
メーカー名 株式会社 島津製作所
型式 SLC-29
仕様・性能 分子線エピタキシ(MBE:molecu1ar beam epitaxy)装置、RFスパッタ装置、物理蒸着装置
用途 金属、無機、有機膜の成膜可能。
特徴 希望の多層膜が作製可能。
利用上のメリット いずれの装置も操作が簡単。
購入年度 平成1年3月
担当部署 工学部/電気学科
担当者 落合 鎮康
連絡先  電話 0565-48-8121(ex.2001)
E-MAIL ochiai[at]aitech.ac.jp
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