clean room

両面マスクアライナ露光装置
紫外線を用いて試料に微細なパターンを転写・焼き付けする装置です。

RIE装置（ドライエッチング装置）
反応性ドライエッチング（Reactive Ion Etching)装置です。シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン、有機物などをドライエッチングできます。

小型チューブ炉
（熱酸化炉、４インチ基盤用）
シリコンウェハの水蒸気酸化を行うためのチューブ炉です。

小型チューブ炉
（熱酸化炉、２インチ基盤用）

シリコンチップへのドープを行うためのチューブ炉です。歪みゲージを作るために用います。

溶融塩実験装置

高温で溶融した塩を多孔質粒子の表面全体に付着させ、多孔質発熱粒子を作製する装置。

クリーンベンチ

HEPAフィルタを用いて埃などの混入を防ぎ、クリーンな環境でサンプル観察などの作業をするための作業台。

ウェットベンチ
有害な気体が発生するときや揮発性の有害物質を取り扱うときに、安全のために用いる局所排気装置の一種。主に基盤の洗浄時に使用します。