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両面マスクアライナ露光装置

紫外線を用いて試料に微細なパターンを転写・焼き付けする装置です。

 

 
RIE装置
(ドライエッチング装置)

反応性ドライエッチング(Reactive Ion Etching)装置です。シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン、有機物などをドライエッチングできます。

 

 
小型チューブ炉
(熱酸化炉、4インチ基盤用)

シリコンウェハの水蒸気酸化を行うためのチューブ炉です。

 

 
小型チューブ炉
(熱酸化炉、2インチ基盤用)

シリコンチップへのドープを行うためのチューブ炉です。歪みゲージを作るために用います。

 

 
溶融塩実験装置

高温で溶融した塩を多孔質粒子の表面全体に付着させ、多孔質発熱粒子を作製する装置。